パワー半導体（Si）
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Φ300㎜対応ラージバッチ縦型システム VF-5900
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜量産装置。
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Φ300㎜対応ミニバッチ縦型システム VF-5700
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜ミニバッチ量産装置。
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量産用ストッカ式縦型システム VF-5300
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納出来、連続バッチ処理が可能です。
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量産用ターンテーブル式縦型システム VF-5100
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。
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ミニバッチタイプ縦型システム VF-3000
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ75～200㎜準量産装置。50～75枚のミニバッチ処理に最適。
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R＆D用縦型システム VF-1000
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。
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300㎜ウェーハ対応クリーンオーブンシステムSO2-12-F
Φ300㎜で全自動対応し、後工程におけるPIQ処理で豊富な実績がある量産用クリーンオーブンです。
