MEMS向けで豊富な出荷実績。低応力Si₃N₄膜やPoly-Si膜の他、酸化・拡散炉等をラインアップ。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納出来、連続バッチ処理が可能です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

イオン注入後の活性化アニールなどに使用されるランプアニールの量産装置です。

イオン注入後の活性化アニールなどに使用されるランプアニールの実験装置です。

卓上式のコンパクトなR＆D用ランプアニール装置で、太陽電池の電極焼成やイオン注入後の活性化アニールなどに最適です。

過熱水蒸気雰囲気に対応したイナートガスオーブンです。過熱水蒸気発生装置をオーブン本体と一体化したコンパクト設計。

無酸化雰囲気で最高600℃での熱処理が可能なオーブン。セラミックの脱脂（脱バイ）用途で多数の納入実績があるモデルです。

過熱水蒸気雰囲気に対応した真空パージ式ボックス炉。最高900℃で常用可能です。

過熱水蒸気雰囲気に対応した小型連続炉。結露対策されており、出入口での結露もありません。

耐熱高性能フィルタと冷却器の組み合わせにより、クリーン環境と高温処理を両立したオーブンシリーズです。

各種雰囲気処理に対応するコンパクトサイズの真空パージ炉です。加熱室の雰囲気置換が短時間で可能です。

金属製マッフルを装備した雰囲気処理が可能な電気炉シリーズです。

10℃/秒以上の高速で、最高1450℃までの高速昇温が可能。雰囲気処理も可能です。

搬送機構に金属メッシュベルトを採用した連続炉。金属マッフルの採用により、均熱性、気密性、雰囲気の安定性に優れています。

雰囲気分離技術により、加熱室内のきめ細やかな雰囲気調整が可能な連続炉です。処理内容・ご要望に応じて設計致します。

搬送コンベアにセラミックチェーンを採用した連続炉です。高温・クリーン処理が可能です。

実験開発（R&D）用コンベア炉です。様々な熱処理雰囲気に対応可能です。また、多品種少量生産にも最適です。